Objectiu de pols de tungstè
video
Objectiu de pols de tungstè

Objectiu de pols de tungstè

Tipus de material: tungstè
Símbol: W
Pes atòmic: 183,84
Número atòmic: 74
Color/Aparença: Blanc grisenc, brillant, metàl·lic
Conductivitat tèrmica: 174 W/mK
Punt de fusió (grau): 3.410
Coeficient d'expansió tèrmica: 4,5 x 10-6/K

Descripció dels productes

Tungsten Sputtering Target

 

Objectiu de pols de tungstè

Un objectiu de pulverització de tungstè és un material metàl·lic d'alta -puresa que s'utilitza en processos de PVD (deposició física de vapor) per dipositar pel·lícules primes de tungstè sobre substrats.


A causa del seu alt punt de fusió, baixa resistivitat i excel·lent estabilitat tèrmica, el tungstè s'utilitza àmpliament en aplicacions electròniques i de recobriment avançades.

 

Els objectius de pulverització de tungstè s'utilitzen àmpliament a les indústries de semiconductors, visualitzacions i recobriments de pel·lícula fina onalta puresa, deposició estable i qualitat de pel·lícula uniformesón crítics.

 

A Ehisen, subministremobjectius de tungstè d'alta-densitat i ultra-puresadissenyat persistemes de catòfora amb magnetrons, assegurant un rendiment estable i una llarga vida útil en entorns de producció exigents.

 

👉 Mides personalitzades, solucions d'enllaç i lliurament ràpid disponibles

 

Especificacions dels productes

 

Puresa W>99.95%
Densitat >19,1 g/cc
Ronda Diàmetre Menor o igual a 14 polzades
Gruix superior o igual a 1 mm
Bloc Longitud inferior o igual a 32 polzades
Amplada Menor o igual a 12 polzades
Gruix superior o igual a 1 mm
Tipus: Objectius de pulverització de tungstè plans i rotatius
 

A continuació es mostren les mides més estàndard dels nostres objectius de pulverització de tungstè. Si no trobeu la mida que necessiteu, no dubteu a contactar amb nosaltres.

Gruix Amplada Longitud Alineació Vertical Acabat superficial
8.0~16.0 10~450 10~500 <0.05 <2o  
3.0~8.0 10~450 10~800 <0.05 <2o  
1.0~3.0 10~450 10~1200 <0.05 <2o  

Tungsten Sputtering Target

Tungsten Sputtering Target

 

Aplicacions típiques d'objectius de tungstè

 

high-purity-tungsten-target

 

 

Avantatges clau dels nostres objectius de tungstè

 

 

 

● Alta puresa (fins al 99,999%)
Assegura una contaminació mínima en processos de semiconductors

● High Density Structure (>19,2 g/cm³)
Proporciona una velocitat de pulverització uniforme i un gruix de pel·lícula estable

● Baixa generació de partícules
Millora el rendiment en aplicacions de recobriment de precisió

● Microestructura estable
Assegura un rendiment constant durant cicles de funcionament llargs

● Solucions d'enllaç personalitzats
Placa de suport de coure amb unió d'indi disponible

tungsten-sputtering-target-disc

 

Com triar l'objectiu de tungstè adequat

 

La selecció de l'objectiu correcte de pulverització de tungstè depèn de:

● Nivell de puresa → semiconductor vs recobriment industrial

● La mida del gra → afecta la uniformitat de la pel·lícula

● Enllaçat i no -unit → rendiment de dissipació de calor

● Mida de l'objectiu → compatible amb equips de pols

👉 Oferim suport gratuït per a la selecció en funció de les condicions del vostre procés

PVD Thin Film Deposition Materials List - Stanford Advanced Materials

 

 

 

ehisen

about us

 

lliurament d'embalatge

 

 

lliurament d'embalatge

 

Materials d'embalatge:

Normalment s'utilitzen materials d'embalatge anti-estàtic,-resistent a la humitat i als-xocs, com ara escuma de plàstic, caixes de fusta, cartrons, etc.

Mètode d'embalatge:

Col·loqueu el producte al material d'embalatge i fixeu-lo amb farciment per evitar que l'objectiu es mogui o es faci malbé durant el transport.

packing

Logotip i etiqueta:

Col·loqueu un logotip i una etiqueta clars al paquet, inclòs el model objectiu, l'especificació, la quantitat, la data de producció, el número de lot i altra informació.

Mètode de transport:

Els productes solen transportar-se per aire o terra. Durant el transport, s'ha de tenir cura d'evitar que l'objectiu es vegi afectat per fortes vibracions, col·lisions o canvis de temperatura.

Processos de servei

 

 

Els nostres processos de servei

 

Consulta

1

>>

Determinar el producte

2

>>

Encarregueu mostres

3

>>

Confirmeu la comanda

4

>>

Transport multi-canal

5

>>

Serveis post-venda

6

Preguntes freqüents

 

 

 

Preguntes freqüents

 

 

01.Quin objectiu de tungstè de puresa he de triar?

Per a aplicacions de semiconductors, es recomana un 99,99% o 99,999%. Es pot utilitzar una puresa més baixa en el recobriment general.

02.Quina és la vida útil típica d'un objectiu de tungstè?

Depèn de la densitat de potència i de les condicions del procés, però els objectius d'alta-densitat garanteixen un ús estable i més llarg.

03.Proporcioneu objectius de tungstè units?

Sí, oferim plaques de suport de coure amb unió d'indi per a una millor dissipació de la calor.

04.Pots personalitzar la mida i la forma?

Sí, admetem la personalització completa basada en dibuixos o mostres.

05.Quin és el preu de l'objectiu de la polverització de tungstè?

El preu depèn de la puresa, la mida i la quantitat. Poseu-vos en contacte amb nosaltres per obtenir una cotització precisa.

 

 

Contacta amb nosaltres

 

 
estem aquí per a tu

Per rebre una cotització ràpida i precisa, envieu-nos:

● Mida i forma de l'objectiu

● Puresa requerida

● Quantitat

● Aplicació (semiconductor / recobriment / solar)

👉 Us recomanarem la solució-més rendible en un termini de 24 hores

escriu-nos
Correu electrònic:
admin@ehisen-anode.com
visitant-nos
Adreça: No. 28, parc industrial de Gaoya, districte de Gaoxin, ciutat de Baoji, província de Shaanxi.
Fax
Número: 0086-0917-3292780
Contacta directament
Telèfon:

+86 18700703333 Elsa lin

 

 

Etiquetes populars: Objectiu de pulverització de tungstè, fabricants, proveïdors, fàbrica d'objectius de tungstè de la Xina

Enviar la consulta